光刻机

Тема		Ответов	Просм.	Активность
Ректор Тунцзи в выпускной речи сообщил, что первый отечественный ArF-иммерсионный литографический станок передан SMIC, поддерживает 7-нм техпроцесс; соответствующий абзац позже удалён с сайта университета Обычный 光刻机		0	6	17.06.2026