Президент Университета Тунцзи, академик Академии наук Китая Ян Цзиньлун 14 июня на церемонии вручения дипломов выпускникам 2026 года выступил с речью, вдохновляющим примером для которой стала многолетняя работа команды Хэ Жунмина над созданием литографического оборудования. В тексте речи, опубликованном в тот же день на сайте университета, подтверждается: команда Хэ Жунмина с 80-х годов прошлого века работала в шанхайском Чжанцзяне, с нуля выстроив собственную технологическую систему и добившись прорыва в ключевых областях, таких как прецизионная оптика и сверхточное управление движением. Разработанная ими литографическая машина для корпусной сборки (advanced packaging) занимает более 80% внутреннего рынка Китая. Согласно версии речи, сохранённой в архиве NetEase News, а также сводке соответствующих фрагментов в Telegram-канале (в канале Zai Hua), в исходном тексте речи также сообщалось: в мае 2025 года первая иммерсионная ArF-литографическая машина, самостоятельно разработанная командой Хэ Жунмина, была официально поставлена SMIC. В сочетании с технологией мультипаттернинга она способна стабильно обеспечивать производство чипов по техпроцессу 7 нм и выше, тем самым нарушив долгосрочную монополию иностранных производителей в сегменте высококлассного фронт-энд литографического оборудования; доля продукции команды на мировом рынке литографических машин для корпусной сборки достигла 33%, войдя в число мировых лидеров. Впоследствии вышеуказанные конкретные данные были удалены из официально опубликованной на сайте новостей Университета Тунцзи версии; в настоящее время в университетской версии сохранено лишь общее описание достижений команды Хэ Жунмина в области литографии для корпусной сборки.
Иммерсионная ArF-литографическая машина является одним из важнейших видов фронт-энд оборудования в технологической цепочке массового производства микросхем, где долгое время доминировали голландская ASML, а также японские Nikon и Canon; если приведённые данные о поставке достоверны, это станет ключевым рубежом в достижении Китаем собственного прорыва в области высококлассной фронт-энд литографии. Удаление соответствующего фрагмента вызвало широкий резонанс, и многие строят догадки, что причиной могли стать соображения информационной безопасности или согласования сроков обнародования данных. В контексте экспортного контроля иммерсионная ArF-литографическая машина обладает высокой стратегической чувствительностью, и официальные лица до сих пор не делали заявлений о состоянии этого оборудования.