据彭博社援引知情人士报道，美国商务部长霍华德·卢特尼克在近期一系列会谈中，向荷兰光刻设备巨头 ASML 高层管理人员表达了关切——担忧该公司顶级极紫外线（EUV）光刻机之一可能已违反美国主导的出口管制规定流入中国。彭博社称，多名高级政府官员表示拥有 ASML"未诚信履行"出口管制义务的证据，包括向中国出口了与 EUV 设备专门相关的零部件或组件；但这些官员以信息来源敏感为由，拒绝向彭博社提供具体证据，亦未确认是否掌握 EUV 整机出现在中国境内的直接证据。ASML 随即发表声明予以全面否认："ASML 从未向中国出运过任何一台 EUV 设备，也从未向中国出运过任何专门用于 EUV 整机的零部件、模块或设备。"美国商务部未就相关问题置评。
这是特朗普政府对 ASML 施压升温的最新信号。此前，美国政府已多次就 ASML 对华业务提出国家安全质疑。ASML 目前仍可合法向中国出售较早一代深紫外线（DUV）光刻机，预计此类许可范围内的中国业务将占其2026年总营收的约20%。国会方面，今年4月一项两党法案已通过关键委员会审议，该法案拟对 ASML 和日本东京威力科创等设备商实施相当于美国企业同等级别的对华出口限制，并呼吁实际禁止向中国出口所有类型的浸没式 DUV 光刻机——若获通过，将对 ASML 的收入结构造成实质性冲击。TechCrunch 分析指出，ASML 单台 EUV 设备价值数亿美元，且其中国 DUV 许可业务风险极大，公司缺乏动机为换取单笔违规销售而冒失去整个市场准入的风险；但由于政府证据尚未公开，外界目前无法对指控的真实性作出判断。